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真空pvd镀膜厂 大岭山真空pvd镀膜 泰坦金属制品有限公司

发布日期 :2022-12-29 15:12发布IP:123.58.44.124编号:11332582
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真空镀膜真空pvd镀膜

什么是真空镀膜技术?

所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

、镀膜的方法及分类

在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,真空pvd镀膜厂,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。




从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,

以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。

蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,真空pvd镀膜厂家,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质,电阻加热源主要用于蒸发Cd、

Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。






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