蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物
质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。
真空镀膜基础知识
一，龙华pvd真空镀膜，镀膜作业步骤:
准备工作
1.镀膜前洗净
2.抽检镜片外观确认(裂边，pvd真空镀膜公司，伤痕，不洁)情况，全检镜片锁板情况(镜片倾斜，
3.确认好准备镀膜的镜片(数量，机种，面别)并做好相应记录
4.上伞，pvd真空镀膜价格，
将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周，勿碰到镜片
5.区分需要镀膜镜片种类面别
6.清洁坩埚电子周围用铜刷刷，吸，并添加药材
7.确认晶振片，监控片是否OK在新的位置
8.确认机台内无杂物，后关门排气加热
9.镀膜
选取相应的制程
10.人员镀膜过程中进行监控
11.下伞
将镀膜后的镜片从伞架取下，放入包装盒
12.抽检
主要为膜点，雾状，颜色异常，不洁
13.光谱测量
采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计
14.伞架每圈抽1PCS共5圈
15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)
16.光谱量测OK后可送出
众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，pvd真空镀膜报价，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。
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