真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，真空pvd镀膜公司，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
pvd真空电镀的功能原理怎么样？
pvd真空电镀的原理主要是物理气相沉积，其是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。pvd真空电镀，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力，镀膜外壳容易清除油漆和指纹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，真空pvd镀膜厂，不氧化，不脱落。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。
五金真空镀膜优势浅析
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