镀膜制造需要部分耗材
1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm，)需要根据机台配置选用
2.TIO2颗粒
3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ
4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm，需要根据机台配置选用
5.铜坩埚，需要根据机台配置选用
6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm
7.电子灯丝，需要根据机台配置选用
8.离子源，需要根据机台配置选用耗材
三，设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用
四，光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样，尺寸可以选择，玻璃真空镀膜，900mm，1100mm，1300mm，1350mm，南城真空镀膜，
主要分为一下几类：
蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，手机真空镀膜，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
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