蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物
质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。
基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。
一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，若是基体外表镀前处置不良，pvd真空镀膜加工，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。
塑料制品表面金属化后，宝安pvd真空镀膜，应用范围将更加广泛。塑料件表面的真空镀膜可分为功能性镀膜和装饰性镀膜。作为功能性镀膜，它可改善塑料件表面的物理、化学性质，如可提高塑料件的尺寸稳定性、导电性等；作为装饰性镀膜，可使塑料件表面具有金属光泽并可根据实际装饰的需要制作出不同的颜色，pvd真空镀膜价格，如金黄色、古铜色、金属红色、金属绿色、金属蓝色等，pvd真空镀膜加工厂，具体可参见样品展示。
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