真空镀膜基础知识
一，镀膜作业步骤:
准备工作
1.镀膜前洗净
2.抽检镜片外观确认(裂边，伤痕，不洁)情况，全检镜片锁板情况(镜片倾斜，
3.确认好准备镀膜的镜片(数量，高埗金属真空镀膜，机种，金属真空镀膜厂，面别)并做好相应记录
4.上伞，
将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周，勿碰到镜片
5.区分需要镀膜镜片种类面别
6.清洁坩埚电子周围用铜刷刷，吸，并添加药材
7.确认晶振片，监控片是否OK在新的位置
8.确认机台内无杂物，后关门排气加热
9.镀膜
选取相应的制程
10.人员镀膜过程中进行监控
11.下伞
将镀膜后的镜片从伞架取下，金属真空镀膜加工厂家，放入包装盒
12.抽检
主要为膜点，雾状，颜色异常，不洁
13.光谱测量
采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计
14.伞架每圈抽1PCS共5圈
15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)
16.光谱量测OK后可送出
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法zui早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
PVD真空镀膜过程的均匀性
PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，金属真空镀膜加工厂，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
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